特許

J-GLOBAL ID：200903074324820514

炭化珪素単結晶のメカノケミカルポリシング方法

発明者： 金谷 正敏 ,  高橋 淳
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229150
公開番号（公開出願番号）：特開平7-080770
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月28日
要約：

【要約】【目的】 この発明は、炭化珪素単結晶の平坦度の良いメカノケミカルポリシング表面を得ることを目的とする。【構成】 酸化クロム(Cr2 O3 )を遊離砥粒として用いて、マイクロビッカース硬さが1000〜2000のポリシング定盤を使用して、炭化珪素単結晶をメカノケミカルポリシングする。

請求項（抜粋）：

酸化クロム(Cr2 O3 )粉末を遊離砥粒として用いてメカノケミカルポリシングを行う方法において、ポリシング定盤にマイクロビッカース硬さが1000〜2000の材料を使用したことを特徴とする炭化珪素単結晶のメカノケミカルポリシング方法。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  B24B 1/00 ,  B24B 37/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-203265
  
• 特開昭60-062459
  
• 特開2049-203265
  
• 特開昭60-062459