特許
J-GLOBAL ID：200903074331578893
有機化合物膜の除去方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273225
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100800
出願日： 1989年03月31日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】フォトレジストを残渣を生じることなくドライ処理で除去すること。【解決手段】予めフォトレジスト24の表層又は表層に付着した付着物をスパッタにより除去した後、フォトレジスト24をO* +F* を含むダウンフロ-型のドライ灰化を行うことにより除去する。
請求項（抜粋）：
有機化合物膜が表面に形成された被処理基体を反応容器内に収容し、少なくとも酸素元素を含むガスを用いて、該有機化合物膜を除去する有機化合物膜の除去方法において、予め前記有機化合物膜の表層又は表層に付着した付着物をスパッタにより除去した後、前記有機化合物膜をフッ素ラジカルと酸素ラジカルとを含むプラズマ中での処理或いはダウンフロー型の処理により除去することを特徴とする有機化合物膜の除去方法。
IPC (4件)：
H01L 21/3065
, G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/304 645
H01L 21/302 H
, G03F 7/42
, H01L 21/304 645 C
, H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 F
