特許

J-GLOBAL ID：200903074343690222

試料検査装置,試料表示装置、および試料表示方法

発明者： 水野 文夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331641
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148016
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】半導体素子の繰返しパターン群中に存在する対象パターンを簡便に見つけられ、位置決めできる試料対象装置および試料対象方法を提供する。【解決手段】半導体素子の繰返しパターン群中に存在する対象パターンの位置出し・位置決めを容易にするため、繰返しパターンを構成する基本パターンを学習する機能と、この基本パターンの数を自動計数するとともに、対象パターンを位置出し・位置決めする機能を持たせる。

請求項（抜粋）：

繰返しパターン群を有する試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子源と、前記荷電粒子線の照射によって前記試料から発生する二次電子を検出する検出器と、該検出器で検出した信号から画像を表示し、該画像の情報に基づいて前記試料を検査する試料検査装置において、前記繰返しパターン群の一部に始点を指定し学習し、前記繰返しパターン群の中の少なくともひとつのパターンを基本パターンとして指定し学習する基本パターン学習手段と、表示すべき対象パターンを前記基本パターン学習手段での学習結果に基づき繰返し始点に位置決めする位置決め手段と、該位置決め手段で位置決めされた始点から前記基本パターンを単位として所定の方向に所定の数だけ移動させる移動制御手段と、該移動制御手段で移動された前記対象パターンを表示する表示手段とを備えたことを特徴とする試料検査装置。

IPC (6件)：

G06T 7/00 ,  G01B 15/00 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/22 502 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 15/00 B ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/22 502 B ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 C

Fターム (58件)：

2F067AA54 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067FF16 ,  2F067GG01 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL00 ,  2F067NN02 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ02 ,  2F067QQ03 ,  2F067SS13 ,  2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001BA07 ,  2G001FA06 ,  2G001GA03 ,  2G001GA04 ,  2G001GA05 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA11 ,  2G001GA19 ,  2G001HA09 ,  2G001JA03 ,  2G001JA07 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA02 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA03 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB08 ,  4M106DB18 ,  4M106DB30 ,  4M106DH24 ,  4M106DH32 ,  4M106DH33 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ27 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057BA21 ,  5B057DA07 ,  5B057DA16 ,  5B057DC07 ,  5C033FF03 ,  5C033FF06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-077334
  
• 特開昭61-077334
  
• パターン寸法測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-061089   出願人：株式会社東芝
• 特開昭52-049770