イオンビーム加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317427
公開番号（公開出願番号）：特開平10-162769
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】同一装置を用いてビーム切り替えによってFIBとPJIBを形成して、試料を高速,高精度加工ができ、長時間動作が可能なイオンビーム加工装置を提供すること。【解決手段】小開口2Aか大開口2Bを配置したアパーチャ板2と、微小開口6Aとパターン開口6Bを配置したマスク板6によりFIB4またはPJIB5を切り替えて形成し、試料9に照射することにより加工を行う。マスク板6は微小開口部を薄肉に、パターン開口部を厚肉に構成する。

請求項（抜粋）：

イオンビームを供給するイオン源と、上記イオンビームの開き角を制限する開口を有するアパーチャ板と、試料を保持する試料台と、微小開口と上記試料を加工すべき形状に対応するパターン開口とを有して上記微小開口部分の基板肉厚が上記パターン開口部分の基板肉厚よりも薄いマスク板と、上記マスク板の微小開口かパターン開口の何れかを選択する開口切替手段と、上記イオン源から引出したイオンビームを上記マスク板に照射する照射光学系と、上記マスク板を通過したイオンビームを上記試料に導く投射光学系とを含むことを特徴とするイオンビーム加工装置。

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