投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-046906
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251300
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【目的】半導体素子製造用の投影露光装置におけるマスク照明条件を輪帯(傾斜)照明にする際、輪帯条件の多様化に対応する。【構成】照明光学系内でマスクのパターン面に対してフーリエ変換の関係にある第1の面に輪帯の外径を規定する第1の絞りを設け、さらにその第1の面と共役な第2の面に輪帯の内径を規定する第2の絞りを設ける。

請求項（抜粋）：

所定のパターンが形成されたマスクを露光光で照明し、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に結像投影する装置において、前記マスクのパターン面に対して光学的なフーリエ変換の関係にある第1の面と、該第1の面と共役な第2の面とを有し、光源からの露光光を前記マスクに照射する照明光学系と;前記第1の面、又はその近傍に配置されて、露光光の外周部を制限する第1の絞り部材と;前記第2の面、又はその近傍に配置されて、露光光の中央部を制限する第2の絞り部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭57-062617
特開昭61-252704

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