特許
J-GLOBAL ID:200903074357500671
インドール系高分子を含む電極の製造方法およびそれを用いた二次電池
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-293478
公開番号(公開出願番号):特開2001-118577
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】自己放電特性の優れた二次電池用インドール系高分子電極を提供する。【解決手段】インドール系高分子の重合で該高分子に添加されたドーパントを一電荷あたりの分子量が140以下のアニオンのドーパントと交換した後、これに導電補助剤と電解液を混合して集電体1a上に成膜した正極材料2と集電体1b上に成膜し電解液をしみ込ませた負極材料4をセパレータ3を介して積層し、ガスケット5で密封して二次電池10を構成する。
請求項(抜粋):
インドール化合物を化学重合または電解重合して形成したインドール系高分子の該重合で該高分子に添加されたドーパントを一電荷あたりの分子量が140以下のアニオンのドーパントと交換した後、第1の集電体上に該高分子を成膜することを特徴とするインドール系高分子を含む電極の製造方法。
IPC (3件):
H01M 4/60
, C08G 61/12
, C08L 65/00
FI (3件):
H01M 4/60
, C08G 61/12
, C08L 65/00
Fターム (31件):
4J002CE001
, 4J002DA017
, 4J002DA027
, 4J002DA037
, 4J002DE056
, 4J002DE196
, 4J002DF036
, 4J002DG046
, 4J002FA047
, 4J002FD117
, 4J002FD206
, 4J002GQ02
, 4J032BA12
, 4J032BC01
, 4J032BC21
, 4J032BC32
, 4J032BD02
, 4J032BD03
, 4J032BD05
, 4J032CG01
, 5H003AA03
, 5H003AA04
, 5H003BA02
, 5H003BA03
, 5H003BA07
, 5H003BB12
, 5H003BB15
, 5H003BB34
, 5H003BB47
, 5H003BD00
, 5H003BD03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭58-220363
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特開昭62-110257
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特開平2-030071
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導電性物質及びその合成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-172812
出願人:山本隆一, 日産化学工業株式会社
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