特許
J-GLOBAL ID:200903074357500671

インドール系高分子を含む電極の製造方法およびそれを用いた二次電池

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-293478
公開番号(公開出願番号):特開2001-118577
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】自己放電特性の優れた二次電池用インドール系高分子電極を提供する。【解決手段】インドール系高分子の重合で該高分子に添加されたドーパントを一電荷あたりの分子量が140以下のアニオンのドーパントと交換した後、これに導電補助剤と電解液を混合して集電体1a上に成膜した正極材料2と集電体1b上に成膜し電解液をしみ込ませた負極材料4をセパレータ3を介して積層し、ガスケット5で密封して二次電池10を構成する。
請求項(抜粋):
インドール化合物を化学重合または電解重合して形成したインドール系高分子の該重合で該高分子に添加されたドーパントを一電荷あたりの分子量が140以下のアニオンのドーパントと交換した後、第1の集電体上に該高分子を成膜することを特徴とするインドール系高分子を含む電極の製造方法。
IPC (3件):
H01M 4/60 ,  C08G 61/12 ,  C08L 65/00
FI (3件):
H01M 4/60 ,  C08G 61/12 ,  C08L 65/00
Fターム (31件):
4J002CE001 ,  4J002DA017 ,  4J002DA027 ,  4J002DA037 ,  4J002DE056 ,  4J002DE196 ,  4J002DF036 ,  4J002DG046 ,  4J002FA047 ,  4J002FD117 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ02 ,  4J032BA12 ,  4J032BC01 ,  4J032BC21 ,  4J032BC32 ,  4J032BD02 ,  4J032BD03 ,  4J032BD05 ,  4J032CG01 ,  5H003AA03 ,  5H003AA04 ,  5H003BA02 ,  5H003BA03 ,  5H003BA07 ,  5H003BB12 ,  5H003BB15 ,  5H003BB34 ,  5H003BB47 ,  5H003BD00 ,  5H003BD03
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭58-220363
  • 特開昭62-110257
  • 特開平2-030071
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