特許
J-GLOBAL ID:200903074358158799
インクジェット記録材料の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-275821
公開番号(公開出願番号):特開2001-096900
出願日: 1999年09月29日
公開日(公表日): 2001年04月10日
要約:
【要約】【課題】インク吸収性及び透明性が高いインクジェット記録材料の製造方法を提供する。【解決手段】透明支持体上に気相法シリカを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録材料の製造方法において、塗布されたインク受容層を20°C以下の雰囲気下で冷却した後乾燥することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
請求項(抜粋):
透明支持体上に気相法シリカを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録材料の製造方法において、塗布されたインク受容層を20°C以下の雰囲気下で冷却した後乾燥することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
IPC (5件):
B41M 5/00
, B05D 5/04
, B05D 7/04
, B05D 7/24 302
, B41J 2/01
FI (5件):
B41M 5/00 B
, B05D 5/04
, B05D 7/04
, B05D 7/24 302 B
, B41J 3/04 101 Y
Fターム (17件):
2C056FC06
, 2H086BA02
, 2H086BA15
, 2H086BA19
, 2H086BA46
, 2H086BA48
, 4D075BB18Y
, 4D075BB24Z
, 4D075BB93Y
, 4D075BB93Z
, 4D075CA35
, 4D075DA04
, 4D075DB48
, 4D075DC27
, 4D075EA02
, 4D075EC03
, 4D075EC53
引用特許:
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