特許

J-GLOBAL ID：200903074365010900

半導体基板の洗浄液

発明者： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  河上 道也
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 小堀 貞文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-055736
公開番号（公開出願番号）：特開平6-116770
出願日： 1991年02月28日
公開日（公表日）： 1994年04月26日
要約：

【要約】【目的】半導体基板を塩基性の過酸化水素水溶液で洗浄する際して、金属不純物の基板表面への付着を防止する。【構成】塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にホスホン酸系のキレート剤を添加する。【効果】洗浄液が金属不純物により汚染されても、基板表面に付着することがないので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つのホスホン酸基を有するキレート剤を含有する塩基性の過酸化水素洗浄液からなる半導体基板洗浄液。

IPC (6件)：

C23G 5/032 ,  C11D 7/60 ,  H01L 21/304 341 ,  C11D 7:36 ,  C11D 7:18 ,  C11D 7:04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-237007
  
• 特公大14-006439
  
• 特開昭57-172210