特許

J-GLOBAL ID：200903074376655600

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 吉川 秀樹 ,  安田 伊佐雄
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-290195
公開番号（公開出願番号）：特開平6-139520
出願日： 1992年10月28日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】 非磁性基板に対してアジマス角だけ傾斜しているギャップ面を機械加工を用いずに形成する。【構成】 上面にアジマス角に等しい角度θだけ傾斜している傾斜部9を有する転写基板8上に第1の磁性膜10を形成する第1の工程と、前記第1の磁性膜10を前記転写基板8が露出するまで除去し平滑面11を形成する第2の工程と、前記転写基板8の平滑面11を非磁性基板14に接合して接合体15を形成する第3の工程と、前記接合体15から上記転写基板8を取り除き、前記第1の磁性膜10にアジマス角だけ傾斜している斜面16を形成する第4の工程と、前記斜面16上にギャップスペーサ膜17を形成する第5の工程と、前記第1の磁性膜10及び前記非磁性基板14上に上記ギャップスペーサ膜17を介して第2の磁性膜18を形成する第6の工程と、前記第2の磁性膜18を上記第1の磁性膜10が露出するまで除去し平坦化する第7の工程とにより薄膜磁気ヘッドを製造する。

請求項（抜粋）：

上面にアジマス角に等しい角度だけ傾斜している傾斜部を有する転写基板上に第1の磁性膜を形成する第1の工程と、前記第1の磁性膜を前記転写基板が露出するまで除去し平滑面を形成する第2の工程と、前記転写基板の平滑面を非磁性基板に接合して接合体を形成する第3の工程と、前記接合体から上記転写基板を取り除き、前記第1の磁性膜にアジマス角だけ傾斜している斜面を形成する第4の工程と、前記斜面上にギャップスペーサ膜を形成する第5の工程と、前記第1の磁性膜及び前記非磁性基板上に上記ギャップスペーサ膜を介して第2の磁性膜を形成する第6の工程と、前記第2の磁性膜を上記第1の磁性膜が露出するまで除去し平坦化する第7の工程とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド製造方法。