特許

J-GLOBAL ID：200903074383154463

真空乾燥装置

発明者： 菅原 徳仁 ,  小林 史和
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-116360
公開番号（公開出願番号）：特開2003-314955
出願日： 2002年04月18日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 基板の真空乾燥を行なう装置において、同一室内にて加熱乾燥・冷却を効率良く、且つ容易に行なえる手段、機能を有する事を目的とする。【解決手段】 真空を保つ真空槽、基板を加熱乾燥するヒータ、基板を冷却する冷却ユニット、乾燥時の温度調整するコントロールユニット、真空排気ポンプ、ガス供給系、真空槽の圧力を計測する圧力計にて構成される。

請求項（抜粋）：

真空乾燥に必要な圧力を保持するための真空槽、前記、真空槽を排気するための真空ポンプ、乾燥・冷却に必要なガス導入システム、基板を乾燥するための加熱ヒータ部、加熱ヒータ部の温度調整を行なう温度調整ユニット、乾燥し排気した気体をろ過する為のフィルターで構成される真空乾燥装置において、基板を乾燥する為の加熱ヒータ部が大気雰囲気に配置され、容易に取り外し可能な機構を具備する事を特徴とする真空乾燥装置。

IPC (4件)：

F26B 5/04 ,  F26B 23/06 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

F26B 5/04 ,  F26B 23/06 A ,  H01L 21/304 651 K ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 M

Fターム (4件)：

3L113AA08 ,  3L113AC24 ,  3L113BA34 ,  3L113DA10