特許
J-GLOBAL ID：200903074392807801
電子ビーム露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064034
公開番号（公開出願番号）：特開平5-136032
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】本発明は新規な電子ビーム露光方法に関し、最適化された基板移動速度のもとで、基板の移動方向に直交する複数のバンドの各々にについて、電子ビームを基板の動きに追従させながら露光を逐次実行する方法において、電子ビームをビームの露光可能範囲のなるべく中央部に寄せて露光できる電子ビーム露光方法を目的とする。【構成】各バンドの露光タイミングを分析して最適化速度を決定しているクリティカルなバンドを発見し、かかるクリティカルなバンドの一つ前のバンドから最初に露光されるバンドに向かって順に、バンドの露光タイミングを他のバンドと露光が重複しない範囲で露光可能範囲の中央部に寄せていく。
請求項（抜粋）：
物体の表面に集束電子ビームを使って、ビームの歪みが最小になるようにパターンを描画する際に、物体の表面を所定方向に延在する複数のゾーンに分割し、前記各々のゾーンをゾーンの延在方向に直交する平行なバンド(B1 〜Bn)に分割し、物体を前記ゾーンの延在方向(A)に、最初のバンド(B1 )から最終のバンド(Bn)まで所定の速度で動かしながらバンドを一つ一つ露光してパターンを描く電子ビーム露光方法において、前記所定速度を、バンドの露光が可能な時間範囲をあらわす露光区間に対して、前記露光区間の始まりから終わりまで露光が中断することなく実質的に連続する一または複数のクリティカルなバンド(タイプ1,タイプ5)にもとづいて,最初のバンドから最後のバンドまで最短の時間で露光できるように最適化する工程と、各々のバンドの露光タイミングを、露光区間内において最適化する工程とよりなり、前記露光タイミングの最適化工程は(a)前記クリティカルなバンドを検索する工程と、(b)前記露光区間中における各バンドの露光タイミングを、各バンドの露光タイミングが重複しない範囲で前記露光区間の中央に向かってずらす工程を、前記クリティカルなバンドの直前のバンドから始めて前記最初のバンド(B1 )に向かって順次実行する工程と、(c)露光タイミングが露光区間の中央に一致した場合に前記工程(b)を打ち切る工程とよりなることを特徴とする電子ビーム露光方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 Z
, H01L 21/30 341 D
