特許
J-GLOBAL ID：200903074402249888
X線分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-040580
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239257
出願日： 1997年02月25日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】 蛍光X線による定性分析において、各分析対象元素について、X線源での電力を最大限に利用して高い感度で測定できるX線分析装置を提供する。【解決手段】 試料1に1次X線3を照射するX線源4と、試料1から発生した2次X線5を回折する分光器6と、分光器6で回折されたX線7を検出する検出器8とを備え、分光器6へ2次X線5が入射する入射角θと、2次X線の延長線9と回折されたX線7のなす分光角2θとを連続的に連動させる連動手段10を備える。さらに、X線源4の電圧値を、電力値は維持しつつ、最大負荷電圧値以下において、分光角2θの増減に応じて、その分光角2θに対応する2次X線5の発生強度が最大となるように連続的に設定する制御手段11を備える。
請求項（抜粋）：
試料に1次X線を照射するX線源と、試料から発生した2次X線を回折する分光器と、分光器で回折されたX線を検出する検出器と、分光器へ2次X線が入射する入射角と、2次X線の延長線と回折されたX線のなす分光角とを連続的に連動させる連動手段とを備えたX線分析装置において、X線源の電圧値を、電力値は維持しつつ、最大負荷電圧値以下において、分光角の増減に応じて、その分光角に対応する2次X線の発生強度が最大となるように連続的に設定する制御手段を備えたことを特徴とするX線分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/223
, G21K 1/06 L
