特許

J-GLOBAL ID：200903074407972308

プラズマ処理方法

発明者： 小谷 哲二郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-052845
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022900
出願日： 1983年11月02日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【構成】エッチング等のプラズマ処理時に発生する光の発光強度のサンプリングタイムを短縮する一方で、検出した発光強度を数回前のサンプリング時の発光強度と比較して(B)、その強度変化を求めその変化分を比較して終点を検出する(C)。【効果】発光強度の変化が緩やかな場合にもノイズの影響をなくして真の終点に極めて近い終点検出を行なうことができ、これによりエッチング等の処理を正確に行なうことができる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理時に発生する光の発光強度を所定の時間間隔毎に順次サンプリングして検出すると共に、検出したときの発光強度をその検出の複数回前にサンプリング検出したときの発光強度と比較して変化分を求め、前記変化分同士を比較して終点を検出することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

H01L 21/302 E ,  C23F 4/00 F ,  H01L 21/66 P