特許

J-GLOBAL ID：200903074418815131

ポジ型感光性組成物

発明者： 児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-307537
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114522
出願日： 2001年10月03日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】 ラインのプロファイルが改善され、且つパターン倒れが抑制されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記式(I)に示す酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)中、R1〜R5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基若しくはアシルアミノ基を表し、R1〜R5のうち少なくとも2つが結合して環構造を形成してもよい。R6及びR7は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基若しくはアリール基を表す。Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基、エーテル連結基若しくはスルフィド連結基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。但し、Y1及びY2は、両方がアルキル基である場合に、Y1及びY2の少なくとも一方のアルキル基が水酸基、エーテル連結基若しくはスルフィド連結基を有しているか、或いはY1及びY2の両方のアルキル基が炭素数2以上である。R1〜R5の少なくとも1つとY1又はY2の少なくとも一つが結合して環を形成してもよい。R1〜R5の少なくとも1つとR6又はR7の少なくとも1つが結合して環を形成してもよい。また、R1〜R7のいずれか又はY1若しくはY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式(I)の構造を2つ以上有していてもよい。X-は、非求核性アニオンを表す。

IPC (8件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (95件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AK32Q ,  4J100AK32R ,  4J100AK32S ,  4J100AL03R ,  4J100AL03S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AM17R ,  4J100AM43Q ,  4J100AM45Q ,  4J100AM47Q ,  4J100AM47R ,  4J100AR09P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR09R ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA02S ,  4J100BA02T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA10R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA12P ,  4J100BA14Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15S ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA29P ,  4J100BA34P ,  4J100BA35P ,  4J100BA40P ,  4J100BA55Q ,  4J100BA55S ,  4J100BA56P ,  4J100BA58P ,  4J100BA59S ,  4J100BB01P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC04T ,  4J100BC07P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC23S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-177743   出願人：日本合成ゴム株式会社