真空蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-035421
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230627
出願日： 1992年02月21日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】薄膜を構成する物質として適さない(基板上にとどまる)原子(分子)を減少させると共に、簡単な構成で容易に、膜厚分布が均一な薄膜を形成し、基板やそのまわりに付着している不純物の落下による蒸着源の汚染を防止する。【構成】真空状態にある真空蒸着装置10の内部において、蒸着源2を加熱させることによって、原子(分子)を蒸発させる。そして、蒸着源2からフィルタ11の間の熱平衡状態にある空間で、これらの原子(分子)同士を衝突させることによって、不純物を取り除き、薄膜を構成する物質として適さない分子を適する原子(分子)に分解する。これらの原子(分子)は、フィルタ11の貫通孔12,12,・・・,12を通過した後、蒸発ビーム13となって基板3に衝突する。そして、基板3上にこれらの原子(分子)がとどまり、お互いに結合することによって、薄膜が形成される。

請求項（抜粋）：

真空容器内に蒸着源が設けられ、その直上に基板が置かれており、前記蒸着源は前記基板より小さく、かつ、前記蒸着源と前記基板が、前記基板の大きさと同程度の間隔に位置する真空蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、前記蒸着源の直上を避けるように設けられた複数の貫通孔を有するフィルタを設けることを特徴とする真空蒸着装置。

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