特許

J-GLOBAL ID：200903074432204986

めっき装置

発明者： 本郷 明久 ,  松田 尚起 ,  王 新明
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-319838
公開番号（公開出願番号）：特開2003-129251
出願日： 2001年10月17日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 めっき液の使用量を極力少なく抑えつつ、めっき液を常に最適な状態に維持して、被処理材の被めっき面により均一なめっき膜を容易に形成できるようにする。【解決手段】 加熱装置78aを備えた循環槽80内で加熱しためっき液を循環させながら、一定量のめっき液をめっき処理部24に供給するめっき液供給系70と、めっき処理部24に残っためっき処理後のめっき液を回収し、加熱して循環槽80に戻すめっき液回収系72と、循環槽80内に新液またはめっき液成分を補給するめっき液補給系74を有する。

請求項（抜粋）：

加熱装置を備えた循環槽内で加熱しためっき液を循環させながら、一定量のめっき液をめっき処理部に供給するめっき液供給系と、前記めっき処理部に残っためっき処理後のめっき液を回収し、加熱して前記循環槽に戻すめっき液回収系と、前記循環槽内に新液またはめっき液成分を補給するめっき液補給系を有することを特徴とするめっき装置。

IPC (2件)：

C23C 18/31 ,  H01L 21/288

FI (2件)：

C23C 18/31 E ,  H01L 21/288 E

Fターム (26件)：

4K022AA05 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA04 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA16 ,  4K022BA24 ,  4K022BA31 ,  4K022BA32 ,  4K022CA01 ,  4K022DA01 ,  4K022DB13 ,  4K022DB15 ,  4K022DB17 ,  4K022DB19 ,  4K022DB20 ,  4K022DB24 ,  4K022EA02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB08 ,  4M104BB32 ,  4M104DD53 ,  4M104FF18

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 無電解銅めっき方法とめっき装置および多層配線基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-285322   出願人：株式会社日立製作所
• 連続電気めっき設備におけるめっき液浴量制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-219601   出願人：川崎製鉄株式会社
• めっき装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-014058   出願人：日本軽金属株式会社
• 基板のめっき装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-066150   出願人：株式会社荏原製作所