特許

J-GLOBAL ID：200903074437210011

化学増幅型ポジレジストの現像方法

発明者： 山中 司 ,  上西 一也 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-085651
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286386
出願日： 1995年04月11日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 起泡性、表面残渣、表面剥離、膜減りを防止でき、パターンの疎密依存性が小さく、更に露光-PEBの経時があってもT-top形成、DOF低下、解像力劣化、および感度低下の生じない良好なレジストを形成することができる化学増幅型ポジ型レジストの現像方法を提供することである。【構成】 酸の作用により分解する基を有し、この基の分解によってアルカリ可溶性となる化合物、光酸発生剤、及び有機塩基性化合物を含有する化学増幅型ポジレジストを、オキシエチレン構造を有する界面活性剤を含有するアルカリ水溶液で現像する。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解する基を有し、この基の分解によってアルカリ可溶性となる化合物、光酸発生剤、及び有機塩基性化合物を含有する化学増幅型ポジレジストを、オキシエチレン構造を有する界面活性剤を含有するアルカリ水溶液で現像することを特徴とする化学増幅型ポジレジストの現像方法。

IPC (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

FI (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501