特許

J-GLOBAL ID：200903074441729994

回転式基板処理装置

発明者： 久井 章博 ,  溝畑 保▲廣▼
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-188829
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031732
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】 処理液供給ノズルの回転中心を移動させて、複数個の回転処理部で同じ処理状態を得ることができる回転式基板処理装置を提供する。【構成】 回転処理部Aでの処理時は、ノズル回転中心Pbが回転モーター26の回転中心Pの直下に位置するように移動モーターによって移動され、処理液供給ノズル4bが回転モーター26によって回転駆動される。一方、回転処理部Bでの処理時は、回転モーター26の回転中心Pの直下から、回転処理部B側へΔdだけずれた位置にノズル回転中心Pbが位置するように移動モーターによって移動される。そして回転モーター26によってその処理液吐出部2bが回転処理部Bの基板回転中心CB の上方に移動される。

請求項（抜粋）：

基板を回転可能に保持する複数個の回転処理部に対して、同じ処理液供給ノズルから処理液を供給して基板を処理する回転式基板処理装置において、前記処理液供給ノズルを所定のノズル回転中心まわりで水平揺動可能に支持する支持手段と、前記複数個の回転処理部の各々に対応して、前記処理液供給ノズルが当該回転処理部に対して所望の位置関係となる前記ノズル回転中心の位置を規定するノズル回転中心位置規定手段と、前記ノズル回転中心位置規定手段によって規定される各回転処理部の各ノズル回転中心位置の間を、前記ノズル回転中心が移動するよう前記支持手段を移動させる移動手段と、ノズル回転中心が所望の回転処理部のノズル回転中心位置にある処理液供給ノズルを、当該ノズル回転中心を中心として揺動駆動させる揺動駆動手段と、を備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 564 D