特許
J-GLOBAL ID：200903074450583803
表示装置用アレイ基板及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蔦田 璋子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-258604
公開番号（公開出願番号）：特開平9-101541
出願日： 1995年10月05日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：
【要約】【課題】 本発明は高精細化に対しても配線間の交差領域における容量変動が低減できるとともに信号線断線不良を防止でき、良好な表示特性が確保できる表示装置用アレイ基板及びその製造方法を提供することを目的としている。【解決手段】 この発明は、表示装置用アレイ基板(100)であって、画素電極(131)が少なくとも信号線(110)上に配置される層間絶縁膜(127)を介して配置され、且つ走査線(111)とその上側の信号線(110)との交差領域において信号線(110)の輪郭に一致する半導体層(120)が介在され、信号線(110)の上方位置に画素電極(131)と同時に形成された導電層(132)が、層間絶縁膜(127)を介して配置され、信号線(110)と導電層(132)とは、1画素程度ごとにコンタクトホール(129d)を介して電的に接続されることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板上に配置される走査線と、この上に配置される第1絶縁膜、この上に配置される半導体膜、前記半導体膜に電気的に接続されるソース電極及びドレイン電極とを含む薄膜トランジスタと、前記ドレイン電極から導出されて前記走査線と略直交する交差領域を含む信号線と、前記ソース電極と電気的に接続される画素電極とを備えた表示装置用アレイ基板において、前記画素電極は少なくとも前記信号線上に配置される第2絶縁膜を介して配置され、且つ前記走査線と前記信号線との前記交差領域において前記信号線の輪郭に一致する前記半導体膜と同一材料からなる半導体層が介在されており、前記信号線の上方位置に前記画素電極と同一材料からなる導電層が、前記第2絶縁膜を介して前記信号線に沿って配置され、前記信号線と前記導電層とは前記第2絶縁膜のコンタクトホールを介して電気的に接続されることを特徴とする表示装置用アレイ基板。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, H01L 29/786
G02F 1/136 500
, H01L 29/78 612 C
