特許
J-GLOBAL ID:200903074450941890

フッ化物コート膜形成処理液,フッ化物コート膜形成方法及び磁石

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-100485
公開番号(公開出願番号):特開2006-283042
出願日: 2005年03月31日
公開日(公表日): 2006年10月19日
要約:
【課題】 希土類磁石の磁気特性向上と渦電流損の低減化および圧粉磁心の鉄損の低減化が課題である。【解決手段】 コート膜処理対象物の表面に希土類フッ化物コート膜又はアルカリ土類金属フッ化物コート膜を形成する処理液を、希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、ゲル状態の希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に分散されてなることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
コート膜処理対象物の表面に希土類フッ化物コート膜又はアルカリ土類金属フッ化物コート膜を形成する処理液において、該希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、ゲル状態の該希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に分散されてなることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
IPC (3件):
C23C 26/00 ,  H01F 1/08 ,  H01F 1/06
FI (3件):
C23C26/00 C ,  H01F1/08 A ,  H01F1/06 A
Fターム (15件):
4K044AA02 ,  4K044AA06 ,  4K044AB01 ,  4K044BA20 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA53 ,  5E040AA04 ,  5E040BB03 ,  5E040BC01 ,  5E040BD01 ,  5E040CA01 ,  5E040NN05 ,  5E040NN17
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
  • 特開昭64-039009

前のページに戻る