特許

J-GLOBAL ID：200903074479321719

磁気ディスク装置

発明者： 東谷 輝義 ,  田中 秀明 ,  田坂 健司 ,  赤松 直俊 ,  東 和文 ,  大塚 正樹
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-249641
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076478
出願日： 1999年09月03日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】磁気ディスク装置の小型化、ヘッドの浮上間隙の狭小化に伴い、従来は問題となっていなかった装置内の微量なガスが問題となる。ガスが摺動を引き起こすメカニズムとして、磁気ディスク表面に吸着しているガスが何らかの影響を与えている危険性があり、吸着したガスを除去することが必要である。【解決手段】磁気ヘッド支持機構の、磁気ディスク対向面側にガス吸着材を取付ける。この結果、空気の循環性が悪い磁気ディスク間に侵入、その後磁気ディスク表面に吸着したガスを、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの間に侵入する前に除去することが可能となる。

請求項（抜粋）：

筐体内に磁気ディスク、磁気ディスク回転機構、磁気ヘッド、磁気ヘッド支持機構及び磁気ヘッド位置決め機構を有する磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッド支持機構の磁気ディスク対向面側に汚染物質吸着手段を付加した磁気ディスク装置。

IPC (2件)：

G11B 33/14 501 ,  G11B 21/21

FI (2件)：

G11B 33/14 501 J ,  G11B 21/21 C

Fターム (6件)：

5D059AA01 ,  5D059BA01 ,  5D059CA30 ,  5D059DA26 ,  5D059DA40 ,  5D059EA07