特許

J-GLOBAL ID：200903074484346290

回折格子の形成方法

発明者： 浅野 英樹
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355254
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156517
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】 露光光に対して透明な基板上に良好に回折格子を形成する。【解決手段】 基板1の露光光が照射される側と反射側の面を基板1を透過した露光光を拡散させる拡散面とし、その上に光吸収層2を形成する。次に、基板の露光光が照射される側の面にフォトレジスト層3を形成する。干渉露光を行いレジスト層3に回折格子パターンを形成する。回折格子パターンが形成されたレジスト層3をマスクに基板1をエッチングして回折格子を形成する。

請求項（抜粋）：

露光光に対して透明な基板の該露光光が照射される側と反対側の面を、該基板を透過した露光光を拡散させる拡散面にする工程と、該拡散面上に前記露光光を吸収する光吸収層を形成する工程と、前記基板の露光光が照射される側の面上にフォトレジスト層を形成する工程と、前記露光光を用いて前記フォトレジスト層に回折格子パターンを形成するリソグラフィ工程と、該回折格子パターンが形成された前記フォトレジスト層をマスクにして、前記基板をエッチングして回折格子を形成する工程とを有することを特徴とする回折格子の形成方法。

IPC (3件)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/004 511

FI (3件)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/004 511

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025DA19 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025FA39 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA59 ,  2H049AA64 ,  2H097LA17