窒化物の気相成長装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：森哲也 , 内藤嘉昭 , 崔秀▲てつ▼ , 宮崎忠之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-145187
公開番号（公開出願番号）：特開2004-349492
出願日： 2003年05月22日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：

【課題】作業能率を低下させることなく、数百μmの厚膜の窒化物を高速で、かつ均一性良く気相成長させる。【解決手段】反応管2にアンモニアを導入する水素化物導入管3と、反応管2内の上流側に配置された生成管4に、ガリウムを収容するソースボート5とソースボート5に反応気体を導入する反応気体導入管6とソースボート5にガリウムを補充する金属源補充管7とを設けた塩化ガリウムの生成手段と、反応管2内の下流側に配置された基板ホルダー19とを備えた窒化物の気相成長装置において、ソースボート5を、反応気体導入管6が接続された半密閉構造の反応室8と、金属源補充管7が接続された充填室9と、反応室8と充填室9とをガリウムの最低使用液面以下の位置で連通する連通室10とで構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

反応管に水素化物を導入する水素化物導入管と、反応管内の上流側に配置された生成管に、金属源を収容するソースボートとソースボートに反応気体を導入する反応気体導入管とソースボートに金属源を補充する金属源補充管とを設けたIII族元素のハロゲン化物生成手段と、反応管内の下流側に配置された基板支持手段とを備えた窒化物の気相成長装置であって、ソースボートを、反応気体導入管が接続された半密閉構造の反応室と、金属源補充管が接続された充填室と、反応室と充填室とを金属源の最低使用液面以下の位置で連通する連通室とで構成したことを特徴とする窒化物の気相成長装置。

IPC (3件)：

H01L21/205 , C23C16/34 , C23C16/46

FI (3件)：

H01L21/205 , C23C16/34 , C23C16/46

Fターム (20件)：

4K030AA03 , 4K030AA13 , 4K030BA38 , 4K030FA10 , 4K030KA02 , 4K030LA14 , 5F045AA00 , 5F045AB14 , 5F045AC15 , 5F045AC18 , 5F045AD10 , 5F045AD12 , 5F045AD14 , 5F045BB01 , 5F045BB09 , 5F045DP09 , 5F045DQ08 , 5F045DQ10 , 5F045DQ11 , 5F045EK06

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