特許
J-GLOBAL ID：200903074492521077
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-070028
公開番号（公開出願番号）：特開2001-256617
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 高記録密度化に伴う短波長の記録信号を再生するために狭ギャップレングス化された再生ヘッドにおいて、安定した縦バイアスを供給し、高感度で、且つ安定した再生性能を有する薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 磁気抵抗効果素子の最上部に形成されたフリー磁性層の上に膜厚差による段差を有するバイアス反強磁性膜を成膜形成することによって、膜厚の大きな部分のバイアス反強磁性膜に接しているフリー磁性層の部分の結合磁界を非常に強くし、膜厚の小さい部分のバイアス反強磁性膜に接しているフリー磁性層の部分の結合磁界を小さくできるため、ギャップレングスに関わらずバルクハウゼンノイズが安定して抑えられ、且つ、再生感度を向上できる。
請求項（抜粋）：
下部シールド層と上部シールド層との間に絶縁材を介して磁気抵抗効果素子を有し、前記磁気抵抗効果素子に接して設けられた縦バイアス層と、信号電流を流すための電極リード層からなる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、反強磁性層、固定磁性層、非磁性導電層及びフリー磁性層からなる磁気抵抗効果素子と、膜厚差による段差のある第1の平面と第2の平面を有するバイアス反強磁性膜と、からなる構成を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (3件)：
5D034BA04
, 5D034BA12
, 5D034DA07
