石英ガラス及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-008083
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220251
出願日： 2001年01月16日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料として、プラズマ耐食性、特にF系プラズマガスに対する耐食性に優れた石英ガラス及びその製造方法を提供する。【解決手段】金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、内部に粒状構造が確認されず、該金属元素の濃度が0.1〜20wt%、該石英ガラス体中の泡と異物の含有量が100cm3当たりの投影面積で100mm2未満で、可視光線の内部透過率が50%/cm以上であるようにした。

請求項（抜粋）：

金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、内部に粒状構造が確認されず、該金属元素の濃度が0.1〜20wt%、該石英ガラス体中の泡と異物の含有量が100cm3当たりの投影面積で100mm2未満で、可視光線の内部透過率が50%/cm以上であることを特徴とする石英ガラス。

IPC (3件)：

C03C 3/06 , C03C 4/08 , H01L 21/3065

FI (3件)：

C03C 3/06 , C03C 4/08 , H01L 21/302 B

Fターム (99件)：

4G062AA01 , 4G062BB02 , 4G062CC04 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DB02 , 4G062DB03 , 4G062DB04 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062ED02 , 4G062ED03 , 4G062ED04 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062EG02 , 4G062EG03 , 4G062EG04 , 4G062FA01 , 4G062FA02 , 4G062FA03 , 4G062FA04 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FB02 , 4G062FB03 , 4G062FB04 , 4G062FC01 , 4G062FC02 , 4G062FC03 , 4G062FC04 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FJ02 , 4G062FJ03 , 4G062FJ04 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062FL02 , 4G062FL03 , 4G062FL04 , 4G062GA01 , 4G062GA02 , 4G062GA03 , 4G062GA04 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH02 , 4G062HH03 , 4G062HH04 , 4G062HH05 , 4G062HH06 , 4G062HH07 , 4G062HH08 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH12 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK02 , 4G062KK03 , 4G062KK04 , 4G062KK05 , 4G062KK06 , 4G062KK07 , 4G062KK08 , 4G062KK10 , 4G062MM35 , 4G062NN10 , 4G062NN34 , 5F004AA16 , 5F004BB29 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

紫外線吸収性が良く、かつ可視光透過性の高いシリカガラスおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-029182 出願人：信越石英株式会社
紫外線吸収性シリカガラスおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-246155 出願人：信越石英株式会社

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