特許
J-GLOBAL ID：200903074500155727
N-t-ブトキシカルボニルマレイミド系(共)重合体の製造方法及びN-t-ブトキシカルボニルマレイミド系(共)重合体を利用した耐熱性ポジレジスト画像形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-024158
公開番号（公開出願番号）：特開平6-080724
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【構成】 新規な単量体であるN-t-ブトキシカルボニルマレイミドをラジカル開始剤の存在下で単独重合させるか又はこの単量体とスチレン系単量体をラジカル開始剤存在下で共重合させ、N-t-ブトキシカルボニルマレイミド系 (共) 重合体を製造し、この共重合体を利用してレジスト画像を形成する。【効果】 形成された高感度、高解像性レジスト画像は耐熱性が優れる。
請求項（抜粋）：
N-t-ブトキシカルボニルマレイミド単量体をベンゾイルペルオキシドの存在下に加熱重合することから成るN-t-ブトキシカルボニルマレイミドホモ重合体の製造方法。
IPC (10件)：
C08F 22/40 MNE
, C08F212/04 MJX
, G03F 7/004 503
, G03F 7/027 514
, G03F 7/039
, G03F 7/039 501
, G03F 7/30
, G03F 7/38 501
, G03F 7/38 511
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 R
, H01L 21/30 361 L
