特許
J-GLOBAL ID:200903074514236118
電子線装置及びこの装置を用いたデバイス製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-202970
公開番号(公開出願番号):特開2003-016985
出願日: 2001年07月04日
公開日(公表日): 2003年01月17日
要約:
【要約】【課題】 各部品の寸法及び間隔に制約を受けず、複雑で高価な部品を用いないで試料の光軸方向位置を検出する。【解決手段】 Zセンサーは、静電偏向器19及び20を備える。該偏向器19、20は、CPU28からの指令により各々の偏向電圧の比率を設定する偏向電圧比設定器27と制御電源26を介して接続され、偏向中心を試料面の上方から下方に至る所定範囲で調整可能とされる。試料8には右側が2次電子放出率ηの大きい物質、左側がηの小さい物質からなるマーカ18が形成され、表示部29は、マーカ18の画像を表示することができる。静電偏向器19及び20により一次電子線を偏向してマーカ18上を走査する間に得られた該マーカの二次電子画像の左右が丁度反転するとき又はその倍率が実質的に∞になるときの偏向器19及び20の偏向電圧比に基づいて、試料面の光軸方向の位置を検出する。
請求項(抜粋):
複数の一次電子線を形成し、該複数の一次電子線を試料の面上に結像させて、走査する一次光学系と、前記試料から各々放出された複数の二次電子線を前記一次光学系から分離させるE×B分離器と、分離された前記複数の二次電子線を結像させる二次光学系と、結像された前記複数の二次電子線を検出する検出器と、を含み、検出された二次電子線から取得された二次電子画像に基づいて前記試料を評価する電子線装置であって、前記複数の一次電子線を各々偏向する2段以上の偏向手段を更に備え、前記2段以上の偏向手段に与えられる励起量の比を調整することにより、主光線の偏向軌道が光軸と交差するところの偏向中心が前記試料面の上方から下方に至る所定範囲で調整されることを特徴とする、前記電子線装置。
IPC (5件):
H01J 37/21
, G01N 23/225
, H01J 37/28
, H01J 37/29
, H01L 21/66
FI (5件):
H01J 37/21 B
, G01N 23/225
, H01J 37/28 B
, H01J 37/29
, H01L 21/66 J
Fターム (31件):
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001DA01
, 2G001DA02
, 2G001DA08
, 2G001EA04
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA08
, 2G001GA09
, 2G001HA12
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001JA03
, 2G001JA13
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106CA50
, 4M106DB05
, 4M106DJ04
, 4M106DJ23
, 5C033MM02
, 5C033MM04
, 5C033UU01
, 5C033UU02
, 5C033UU05
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