処理装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-348142
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160016
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】[目的]処理液供給用容器内の残量または供給状況をより正確に監視し、または排液回収用容器内の溜量または回収状況をより正確に監視し、処理装置の信頼性を向上させる。[構成]レジスト液収容ボトル44を載せた重量センサ48からのアナログの計量信号WAを基に、レジスト液残量測定部62より、レジスト液収容ボトル44内に現在入っているレジスト液の液量つまり残量の測定値LMa が得られる。一方、カウンタ64よりレジスト液供給回数または塗布動作回数を表す計数値が得られ、レジスト液残量推定部66より、ボトル44内に現在残っているレジスト液の量つまり残量の推定値LMb が得られる。比較判定部72は、残量測定値LMa および残量推定値LMb のいずれか一方が残量限界値LGまで低下すると、警報部74に所定の信号を与えて、残量アラームを発生させる。

請求項（抜粋）：

処理液を収容した容器から処理動作毎に所定量の処理液を処理部へ供給するようにした処理装置において、前記容器の重量を計量して前記容器内の前記処理液の残量を測定する処理液残量測定手段と、前記処理動作の実行回数または前記処理液の供給回数を計数する計数手段と、前記処理液残量測定手段より得られる処理液残量測定値と前記計数手段より得られる計数値とに基づいて前記容器内の前記処理液の残量または前記容器からの前記処理液の供給状況を監視する手段とを具備したことを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 361 C , H01L 21/30 361 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-220827
特開平1-220827
特開平2-182267

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