特許
J-GLOBAL ID:200903074521325436

超純水の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 早川 政名
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-318464
公開番号(公開出願番号):特開平6-163502
出願日: 1992年11月27日
公開日(公表日): 1994年06月10日
要約:
【要約】【目的】 超純水中から極微量な金属イオン及びコロイド状金属をさらに除去する方法を提供することにより高純度の超純水を得ることにある。【構成】 超純水を金属シリコン5と接触させ、該金属シリコン5が有する表面にて超純水中の金属イオン及びコロイド状金属成分を吸着して除去するものである。
請求項(抜粋):
超純水を金属シリコンと接触させ、該金属シリコンが有する清浄表面にて上記超純水中の金属イオン及びコロイド状金属成分を吸着して除去することを特徴とする超純水の製造方法。
IPC (2件):
H01L 21/304 341 ,  C02F 1/28

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