特許
J-GLOBAL ID:200903074539262059
円形加速器およびビームの出射方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-275287
公開番号(公開出願番号):特開平9-115699
出願日: 1995年10月24日
公開日(公表日): 1997年05月02日
要約:
【要約】【課題】出射効率が良く、かつ、径の小さいビームを安定に得られる円形加速器を小型化する。【解決手段】本実施例の円形加速器は、ビームを外部から円形加速器へ入射させる入射装置9,ビームが周回する真空ダクト10,ビーム軌道を曲げる偏向電磁石1,ビームのチューンを調整する四極電磁石2,3,入射されたビームにエネルギーを与える高周波加速空胴4,クロマティシティの補正および3次共鳴の励起を行う六極電磁石5,6,ビームのベータトロン振動振幅を増加させる高周波電場印加用電極7,ベータトロン振動振幅を増加した陽子をビームとして出射する出射用デフレクター8,六極電磁石5,6に電流を供給する六極電磁石用電源12,13,六極電磁石用電源12,13が供給する電流を変えることによって、六極電磁石5,6が作る磁場の強さを制御する制御装置11などから構成されている。
請求項(抜粋):
ベータトロン振動の位相差がnπ/3(nは奇数)で、かつ、出射用デフレクターとのベータトロン振動の位相差φが、設計軌道に沿ったビーム進行方向の座標をsとし、出射用デフレクター位置でのベータトロン関数をβ,分散関数をη,分散関数の微分をη′としたとき、【数1】(ただし、θ=(4m±1)π/6、mは(φ-π/2)<θ<(φ+π/2)を満たす整数)を満たす位置に配置され、電流が供給されることにより磁場を励起する2台の6極電磁石と、前記2台の6極電磁石が励起する前記磁場の強さを異なる値に制御する制御装置とを備えることを特徴とする円形加速器。
前のページに戻る