希土類酸化物膜形成用組成物

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：三枝英二 (外2名) , 三枝英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-070277
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262357
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】真空排気装置や加熱炉等の大規模設備を要することなく、簡単な操作によって、非導電性基材上にも、良好な希土類酸化物膜を形成できる方法を提供する。【解決手段】希土類化合物を溶解した水溶液であって、硝酸イオン及び亜硝酸イオンから選ばれた少なくとも一種の陰イオンと還元剤を含有する水溶液であることを特徴とする希土類酸化物膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

希土類化合物を溶解した水溶液であって、硝酸イオン及び亜硝酸イオンから選ばれた少なくとも一種の陰イオンと還元剤を含有する水溶液であることを特徴とする希土類酸化物膜形成用組成物。

IPC (2件)：

C23C 18/16 , C01F 17/00

FI (2件)：

C23C 18/16 Z , C01F 17/00 A

Fターム (22件)：

4G076AA02 , 4G076AB04 , 4G076AB07 , 4G076AB08 , 4G076BA11 , 4G076CA10 , 4K022AA03 , 4K022AA04 , 4K022AA13 , 4K022BA15 , 4K022BA28 , 4K022BA33 , 4K022CA06 , 4K022CA07 , 4K022CA19 , 4K022CA20 , 4K022CA21 , 4K022DA01 , 4K022DB02 , 4K022DB03 , 4K022DB04 , 4K022DB05

引用文献：

審査官引用 (2件)

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