特許

J-GLOBAL ID：200903074555583396

有機ELデバイスの製造装置

発明者： 榊原 孝久 ,  辻岡 強 ,  柴田 賢一
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 目次 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-297537
公開番号（公開出願番号）：特開2003-109755
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月11日
要約：

【要約】【課題】 有機ELデバイス中の有機膜を大面積の基板上に蒸着法で形成することができ、かつ有機材料の利用効率を高めることかできる有機ELデバイスの製造装置を得る。【解決手段】 有機ELデバイス中の有機膜を基板10上に形成するための有機ELデバイスの製造装置であって、基板10上を基板面の方向に沿って基板に対して相対的に移動するヘッド1と、ヘッド1に設けられ、基板10に向かって開口した少なくとも1つのノズル孔9を有する容器2と、容器2内を加熱するための加熱手段3とを備え、容器2内の粉末状の有機材料8を加熱手段3で加熱して昇華させ、昇華した有機材料8をノズル孔9から噴出し、基板10上に有機材料を蒸着して有機膜を形成させるように構成されていることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

有機ELデバイス中の有機膜を基板上に形成するための有機ELデバイスの製造装置であって、前記基板上を基板面の方向に沿って基板に対して相対的に移動するヘッドと、前記ヘッドに設けられ、前記基板に向かって開口した少なくとも1つのノズル孔を有する容器と、前記容器内を加熱するための加熱手段とを備え、前記容器内の粉末状の有機材料を前記加熱手段で加熱して昇華させ、昇華した有機材料を前記ノズル孔から噴出し、前記基板上に有機材料を蒸着して前記有機膜を形成させるように構成されていることを特徴とする有機ELデバイスの製造装置。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/24 D ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB10 ,  4K029DB12 ,  4K029DB18 ,  4K029HA01