特許
J-GLOBAL ID：200903074567750468
反射型マスクブランク及び反射型マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-254688
公開番号（公開出願番号）：特開2009-088166
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】少なくとも基板と、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を吸収する吸収体と、を有する反射型マスクブランクであって、吸収体の膜厚を薄くし、露光時にパターン周辺部の解像度低下を防止する反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。【解決手段】前記吸収体に少なくともIn、Ga、Zn、または少なくともIn、Ga、Sn、O元素が含まれ、吸収体のシート抵抗値が、少なくとも1MΩ/□以下であることを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
少なくとも基板と、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を吸収する吸収体と、を有する反射型マスクブランクであって、前記吸収体に少なくともIn、Ga、Zn、Oの元素が含まれることを特徴とする反射型マスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA01
, 2H095BA10
, 2H095BB25
, 2H095BC14
, 5F046GA03
, 5F046GD01
, 5F046GD05
