特許
J-GLOBAL ID：200903074571148586
導電性パターンの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-066150
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275831
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【構成】ラングミュアーブロッジェット法により製膜した有機脂肪酸膜をパタニングした後、重合することにより導電性を示す反応性前駆体を前記有機脂肪酸上にラングミュアーブロッジェット法により積層し、光照射により該有機脂肪酸上の前駆体部分を選択的に重合させ導電性を付与することを特徴とする導電性パターンの製造方法。【効果】本発明によれば、サブミクロン程度の極めて微細な導電性パターンを、マスクを用いずに平面上のみならず従来ではパターンの描けなかった端面や側面あるいは湾曲部分にも形成することが可能である。
請求項（抜粋）：
ラングミュアーブロッジェット法により製膜した有機脂肪酸膜をパタニングした後、重合することにより導電性を示す反応性前駆体を前記有機脂肪酸上にラングミュアーブロッジェット法により積層し、光照射により該有機脂肪酸上の前駆体部分を選択的に重合させ導電性を付与することを特徴とする導電性パターンの製造方法。
IPC (3件)：
H05K 3/10
, H01B 13/00 503
, H01L 21/3205
