特許
J-GLOBAL ID：200903074573713639

水和ルチル型二酸化チタン光触媒及び水和処理方法

発明者：
小松 晃雄

小松 晃雄 について

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原田 昭雄

原田 昭雄 について

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森田 誉志巳

森田 誉志巳 について

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大下 健二

大下 健二 について


出願人/特許権者：
小松 晃雄

小松 晃雄 について

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大研化学工業株式会社

大研化学工業株式会社 について

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科学技術振興事業団

科学技術振興事業団 について


代理人 (1件)： 三木 久巳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-220737
公開番号（公開出願番号）：特開2003-033660
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2003年02月04日
要約：
【要約】【課題】 ルチル型二酸化チタンが有する低光触媒性の新規な原因を解明し、この原因を克服することにより光触媒効率の増大化を図り、光触媒分野における新たなブレイクスルーを達成する。【解決手段】 第1発明に係る水和ルチル型二酸化チタン光触媒は、ルチル型二酸化チタン粒子の表面に吸着水を水和させたことを特徴とする。また、第2発明に係る水和ルチル型金属担持二酸化チタン光触媒は、ルチル型金属担持二酸化チタン粒子の表面に吸着水を水和させたことを特徴とする。ルチル表面に吸着水を水和させることにより、OHラジカルを大量生成して光触媒効率を増大化する。また、第3発明は具体的な水和処理方法であり、酸・アルカリ性水溶液による沸騰処理法、強酸・強アルカリ水溶液での常温常圧処理法、高温高圧水蒸気処理法及び酸・アルカリ水溶液の高温高圧蒸気処理法が含まれる。
請求項（抜粋）：
ルチル型二酸化チタン粒子からなる光触媒において、ルチル型二酸化チタン粒子の表面に吸着水を水和させたことを特徴とする水和ルチル型二酸化チタン光触媒。
IPC (6件)：
B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/42 ,  B01J 37/10 ,  C01G 23/047
FI (8件)：
B01J 35/02 J ,  B01J 35/02 H ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/42 M ,  B01J 37/10 ,  C01G 23/047 ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 G
Fターム (34件)：
4D048AA19 ,  4D048BA07X ,  4D048BA30X ,  4D048BB17 ,  4D048EA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BC75B ,  4G069BD01A ,  4G069BD01B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069DA05 ,  4G069EB19 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC30 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FA08 ,  4G069FB29 ,  4G069FC06 ,  4G069FC07 ,  4G069FC10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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