特許
J-GLOBAL ID：200903074574468980
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183910
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036077
出願日： 1995年07月20日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 ランプ制御用の照度計の紫外線損傷を軽減する。【解決手段】 照度計測時は紫外線照度計15を基板ボックス1内の紫外線到達領域UR内に位置決めし、照度計測を行わないときは、照度計昇降機構21によって紫外線照度計15を紫外線到達領域URの外側に退避させる。
請求項（抜粋）：
紫外線エネルギーを基板に照射して与える基板処理装置であって、基板を支持する支持手段と、前記支持手段に支持された基板に対向して配置され、当該基板に向けて紫外線を照射する紫外線ランプと、紫外線ランプの照度を測定する紫外線照度計と、前記紫外線照度計を移動させることにより前記紫外線照度計の前記紫外線ランプに対する距離を変化させる駆動手段と、前記駆動手段を制御し、前記紫外線ランプからの紫外線が実質的に到達する紫外線到達領域内へ前記紫外線照度計を位置決めし、且つ、基板への紫外線照射時間より少なく設定された紫外線照度測定時間の経過後、前記駆動手段を駆動させて前記紫外線照度計を前記紫外線到達領域の外に退避させる制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, G03F 7/38
H01L 21/304 341 D
, G03F 7/38
