特許
J-GLOBAL ID:200903074575534928

ガスバリア性に優れた積層構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-001228
公開番号(公開出願番号):特開2001-191442
出願日: 2000年01月07日
公開日(公表日): 2001年07月17日
要約:
【要約】【課題】 十分なガスバリア性を有し、且つ、シーラント層との高い接着強度を有し、更には蒸着面に印刷を施してもそれらの性能が低下することのない積層構造体を提供する。【解決手段】 金属酸化物から成る薄膜を基材フィルムの少なくとも一方の面に形成した蒸着プラスチックフィルムの蒸着面上に、金属酸化物ゾルをコーティングしてなるコーテイング層を設け、該コーティング層上にシーラント層を積層してなることを特徴とするガスバリア性に優れた積層構造体。
請求項(抜粋):
金属酸化物から成る薄膜を基材フィルムの少なくとも一方の面に形成した蒸着プラスチックフィルムの蒸着面上に、金属酸化物ゾルをコーティングしてなるコーテイング層を設け、該コーティング層上にシーラント層を積層してなることを特徴とするガスバリア性に優れた積層構造体。
IPC (2件):
B32B 9/00 ,  H01B 5/14
FI (2件):
B32B 9/00 A ,  H01B 5/14 A
Fターム (38件):
4F100AA17B ,  4F100AA17C ,  4F100AA20C ,  4F100AK01A ,  4F100AK04 ,  4F100AK21C ,  4F100AK41 ,  4F100AK51G ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA25C ,  4F100CB00 ,  4F100EH46C ,  4F100EH461 ,  4F100EH661 ,  4F100GB15 ,  4F100GB41 ,  4F100HB31E ,  4F100JB05C ,  4F100JD02 ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JK06 ,  4F100JL12D ,  4F100JM01C ,  4F100JM02B ,  4F100YY00 ,  4F100YY00C ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC10
引用特許:
審査官引用 (3件)

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