特許

J-GLOBAL ID：200903074576287576

半導体製造設備用転がり軸受

発明者： 近藤 博光 ,  水谷 隆宏 ,  佐藤 則秀 ,  佐藤 佐
出願人/特許権者： エヌティエヌ株式会社
代理人 (1件)： 江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-136084
公開番号（公開出願番号）：特開平5-272542
出願日： 1991年06月07日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：

【要約】【目的】 転がり軸受を、真空中・大気中の両方で耐久性にすぐれ、かつ低発塵で、特に半導体製造分野での使用に適したものとする。【構成】 転がり軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に平均分子量が1×103 〜 3×103のポリテトラフルオロエチレン(PTFEテロマー)からなる固体潤滑被膜1a、2a、3aを形成する。

請求項（抜粋）：

半導体製造設備用転がり軸受であって、この転がり軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に平均分子量が1×103〜3×103のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑被膜を形成したことを特徴とする半導体製造設備用転がり軸受。

IPC (4件)：

F16C 33/62 ,  B32B 15/08 ,  F16C 33/32 ,  F16C 33/34

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭52-031253
  
• 特開昭51-070105
  
• 特開昭49-000640
  
• 特開昭63-225729