特許
J-GLOBAL ID:200903074585371555
膜厚測定方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 利之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-019783
公開番号(公開出願番号):特開2005-214712
出願日: 2004年01月28日
公開日(公表日): 2005年08月11日
要約:
【課題】密度が近い隣接層が存在するなどの理由でX線反射率法による膜厚測定ができない場合でも,配向性を考慮した回折X線強度の理論ロッキングカーブを測定ロッキングカーブにパラメータフィッティングすることで,X線回折法によって薄膜の膜厚を測定可能にする。【解決手段】薄膜の表面に対して入射角αでX線を入射して回折X線の強度を測定し,入射角αを変化させて測定ロッキングカーブを得る。一方,薄膜の配向密度分布関数ρを考慮して理論ロッキングカーブを計算する。既知の膜厚の標準試料についてあらかじめ求めておいたスケール因子を用いて,配向密度分布関数ρの特性パラメータと,薄膜の膜厚tとを変化させて,理論ロッキングカーブが測定ロッキングカーブに最も合致するように,パラメータフィッティングを実施し,これによって膜厚tを決定する。【選択図】図6
請求項(抜粋):
次の段階を備える膜厚測定方法。
(ア)多結晶材料からなる薄膜を準備する段階。
(イ)前記薄膜の表面の法線方向の周りに軸対称となる配向密度分布関数ρを仮定する段階。この配向密度分布関数ρは,前記薄膜の結晶子の被測定格子面の法線が薄膜の表面の法線に対して傾斜する角度φについての関数であり,かつ,関数の形を特徴づける特性パラメータを含んでいる。
(ウ)前記薄膜の表面に対して入射角αでX線を入射して,薄膜の前記被測定格子面で反射した回折X線の強度を測定し,入射角αを変化させて前記被測定格子面からの回折X線の強度の変化を求めて,測定ロッキングカーブを得る段階。
(エ)既知の膜厚の標準試料についてあらかじめ求めておいたスケール因子と,前記配向密度分布関数ρと,前記薄膜の膜厚tとに基づいて,理論的な回折X線強度を計算して,入射角αを変化させたときの前記被測定格子面からの回折X線の強度の変化についての理論ロッキングカーブを求める段階。
(オ)前記理論ロッキングカーブが前記測定ロッキングカーブに最も合致するように前記特性パラメータと前記膜厚tとを変化させてパラメータフィッティングを実施し,これによって前記膜厚tを決定する段階。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (28件):
2F067AA27
, 2F067FF01
, 2F067HH04
, 2F067JJ03
, 2F067KK09
, 2F067NN09
, 2F067PP13
, 2F067RR19
, 2F067RR31
, 2G001AA01
, 2G001BA15
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001FA02
, 2G001FA29
, 2G001GA01
, 2G001GA13
, 2G001JA01
, 2G001JA06
, 2G001JA08
, 2G001JA11
, 2G001KA11
, 2G001KA20
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001NA07
, 2G001PA12
, 2G001SA02
引用特許: