特許
J-GLOBAL ID:200903074586826700
液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-074218
公開番号(公開出願番号):特開2005-265919
出願日: 2004年03月16日
公開日(公表日): 2005年09月29日
要約:
【課題】 樹脂層に対して複数の凹凸部のパターンを一括して形成することが可能となると共に、当該樹脂層上に形成された反射膜の反射光に指向性を付与し、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能となる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】 反射層を備えた液晶表示装置の製造方法であって、反射層を形成する工程は、基板2上に感光性樹脂層52を形成する工程と、表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型80を接触させる工程と、フォトマスク90を用いて露光を行う工程と、露光の後に透光性型80を離脱させる工程と、感光性樹脂層52の表面に反射膜を形成する工程とを有し、フォトマスク90には、透過率が異なる複数の透光量調整部91が設けられており、当該複数の透光量調整部91を介して露光することで、感光性樹脂層52に対する露光量を部分的に異ならせることを特徴とする。【選択図】 図7
請求項(抜粋):
反射層を備えた液晶表示装置の製造方法であって、
前記反射層を形成する工程は、
基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型を、当該傾斜面と前記感光性樹脂層が対向するように接触させる工程と、
前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、フォトマスクを用いて露光を行う工程と、
前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、
前記感光性樹脂層の表面に反射膜を形成する工程と、
を有し、
前記フォトマスクには、透過率が異なる複数の透光量調整部が設けられており、当該複数の透光量調整部を介して露光することで、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (5件):
G02F1/1335
, G02B5/02
, G02B5/08
, G02F1/13
, G02F1/1333
FI (6件):
G02F1/1335 520
, G02F1/1335 505
, G02B5/02 C
, G02B5/08 B
, G02F1/13 505
, G02F1/1333
Fターム (34件):
2H042AA02
, 2H042AA26
, 2H042BA04
, 2H042BA08
, 2H042BA20
, 2H042DA01
, 2H042DA11
, 2H042DA16
, 2H042DC02
, 2H042DC08
, 2H088EA22
, 2H088EA23
, 2H088EA25
, 2H088HA12
, 2H088HA21
, 2H088MA06
, 2H088MA20
, 2H089HA07
, 2H089HA15
, 2H089QA16
, 2H089TA12
, 2H089TA17
, 2H089UA09
, 2H091FA02Y
, 2H091FA16Y
, 2H091FB02
, 2H091FB08
, 2H091FC14
, 2H091FC26
, 2H091FD02
, 2H091FD23
, 2H091LA16
, 2H091LA30
, 2H091MA10
引用特許:
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