特許

J-GLOBAL ID：200903074597597966

半導体製造装置及び方法

発明者： 杉村 義昭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-160701
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335196
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】 ソフトの大幅な変更を行うことなく、返信メッセージタイムアウトの発生を防止する【解決手段】 ホストコンピュータからの送信メッセージに対し、必要であれば返信メッセージを送信するプロトコルをサポートしたインターフェースを有し、前記ホストコンピュータからの処理要求のメッセージ301に応じて、要求される処理を行い、その処理の終了後、その処理の終了を知らせる返信メッセージ303を前記ホストコンピュータに送信する制御手段を備えた半導体製造装置において、前記制御手段は、各処理についての処理時間を示すデータを予め記憶し、前記処理要求のメッセージを受信したとき、要求された処理の処理時間を前記データより得、これに基づいて前記処理終了の返信メッセージを送信するまでの時間を知らせるメッセージ302を前記ホストコンピュータに送信する。

請求項（抜粋）：

ホストコンピュータからの送信メッセージに対し、必要であれば返信メッセージを送信するプロトコルをサポートしたインターフェースを有し、前記ホストコンピュータからの処理要求のメッセージに応じて、要求される処理を行い、その処理の終了後、その処理の終了を知らせる返信メッセージを前記ホストコンピュータに送信する制御手段を備えた半導体製造装置において、前記制御手段は、各処理についての処理時間を示すデータを予め記憶し、前記処理要求のメッセージを受信したとき、要求された処理の処理時間を前記データより得、これに基づいて前記処理終了の返信メッセージを送信するまでの時間を知らせるメッセージを前記ホストコンピュータに送信するものであることを特徴とする半導体製造装置。