特許

J-GLOBAL ID：200903074604139804

走査型露光装置及び露光方法

発明者： 金子 謙一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-200701
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028328
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】 マスクの熱変形状態を常時監視し、その監視結果に基づいて投影光学系の結像特性を正確に補正可能な走査型露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 レチクルRとウエハWとを同期して移動させながら、レチクルRに形成されたパターンの像を投影光学系24を介してウエハW上に走査露光する。この走査露光中に、レチクルR上に形成された棒状のマーク33aからなる周期パターン33の像を、受光器34により検出する。また、レチクルステージ19の移動に伴い、干渉計22Aにより走査露光の基準となる基準位相周期を発生させる。主制御系23により、前記周期パターン33の像に基づく検出位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出し、その検出結果に基づいて投影光学系24の結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期して移動させつつ、前記マスクに形成されたパターンの像を前記基板上に走査露光するようにした走査型露光装置において、前記マスク上に形成され、所定の位相周期を発生させる第1周期発生手段と、前記所定の位相周期を検出する周期検出手段と、前記走査露光の基準となる基準位相周期を発生させる第2周期発生手段と、前記所定の位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出する位相差検出手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (14件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB26 ,  5F046CC02 ,  5F046CC16 ,  5F046DA08 ,  5F046DA13 ,  5F046DA27 ,  5F046DB05 ,  5F046DB12 ,  5F046DC02