特許
J-GLOBAL ID:200903074616368060
オルトシリケート誘導体に基づく新規なリチウム挿入電極材料
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
中村 稔 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-117248
公開番号(公開出願番号):特開2001-266882
出願日: 2000年03月14日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、オルトシリケート誘導体に基づく新規なリチウム挿入電極材料、これらの材料を含む電極を有する電気化学的発電装置及び可変光伝導装置に関する【解決手段】 少なくとも二価の結合価を有する少なくとも一の遷移金属を取り込むことによって、ビルディングブロックとしてSiO44-テトラニオンを含むオルトシリケートを使用する。構造からリチウムが出入りして、電極作動中のレドックス共役体の原子価の変化を補償し、全体としての電気的中性度を保つ。本発明の電極材料は、例えば、Li2MnSiO4,Li2FeSiO4などが挙げられる。
請求項(抜粋):
オルトシリケート構造に基づき、以下の一般式を有するリチウム挿入型の電極材料:LixMm-(d+t+q+r)DdTtQqRr[SiO4]1-(p+s+g+v+a+b)[SO4]s[PO4]p[GeO4]g[VO4]v[AlO4]a[BO4]b式中、MはMn2+又はFe2+及びその混合物を意味し;DはMg2+、Ni2+、Co2+、Zn2+、Cu2+、Ti2+、V2+、Ca2+を含む+2酸化状態にある金属を意味し;TはAl3+、Ti3+、Cr3+、Fe3+、Mn3+、Ga3+、Zn3+、V3+を含む+3酸化状態にある金属を意味し;QはTi4+、Ge4+、Sn4+、V4+を含む+4酸化状態にある金属を意味し;RはV5+、Nb5+、Ta5+を含む+5酸化状態にある金属を意味し;M、D、T、Q、Rは八面体又は四面体部位に位置する元素であり;s、p、g、v、a及びbは、ケイ素四面体部位に位置するS6+(スルフェート)、P5+(ホスフェート)、Ge4+(ゲルマネート)、V5+(バナデート)、Al3+(アルミネート)及びB3+(ボレート)それぞれに対応する化学量論係数であり;化学量論係数のd、t、q、r、p、s、v、a、bはすべて正の数であり、0(含む)と1(含む)の間の数であり;0≦x≦2; 1≦m≦2; p+s+v+a+b<1(含まない);かつx+2m+t+2q+3r=4-p-2s-v+a+bである。
IPC (10件):
H01M 4/58
, C01B 25/30
, C01B 33/00
, C01B 35/00
, H01G 9/00
, H01G 9/058
, H01G 9/004
, H01M 4/02
, H01M 4/62
, H01M 10/40
FI (10件):
H01M 4/58
, C01B 25/30 Z
, C01B 33/00
, C01B 35/00
, H01G 9/00
, H01M 4/02 C
, H01M 4/62 Z
, H01M 10/40 Z
, H01G 9/00 301 A
, H01G 9/04
Fターム (40件):
4G072AA35
, 4G072GG02
, 4G072HH30
, 4G072JJ08
, 4G072JJ09
, 4G072JJ45
, 4G072LL11
, 4G072MM02
, 4G072MM31
, 4G072MM36
, 4G072UU15
, 5H029AJ14
, 5H029AK03
, 5H029AL01
, 5H029AL06
, 5H029AL12
, 5H029AM00
, 5H029AM03
, 5H029AM07
, 5H029AM16
, 5H029CJ22
, 5H029CJ24
, 5H050AA19
, 5H050BA16
, 5H050BA17
, 5H050CA07
, 5H050CB01
, 5H050CB07
, 5H050CB12
, 5H050DA02
, 5H050DA03
, 5H050DA09
, 5H050DA10
, 5H050DA11
, 5H050EA01
, 5H050EA08
, 5H050EA24
, 5H050FA19
, 5H050GA22
, 5H050GA24
引用特許:
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