リソグラフィシステム及びそれを利用した半導体デバイス製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-323959
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214303
出願日： 1991年04月02日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【構成】リソグラフィ工程の複数台の露光装置を、生産管理のために統括的に制御するホストコンピュータとは別に、各露光装置の固有の装置定数、動作パラメータ、ウエハの加工状態の情報等を収集し、ホストコンピュータによる制御と干渉することなく、各露光装置の稼動状態が安定に維持されるように制御する系を設ける。【効果】複数の露光装置を使ったリソグラフィ工程の全体、あるいは露光装置の運用を効率的に支援することができる。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ工程で使用される複数台の露光装置と、該複数台の露光装置の夫々で使用されるマスクの供給管理、前記複数台の露光装置の夫々で露光されるべき複数枚の基板の供給管理、及び前記複数台の露光装置の夫々に供給された前記マスクと基板とに応じた各露光装置の稼動条件設定を統括制御するプロセス管理装置とを備えたリソグラフィ・システムにおいて、前記複数台の露光装置の夫々に設定された前記稼動条件に応じて変化し得る各露光装置毎の固有の装置情報、もしくは各露光装置で処理された基板の加工状態を計測、又は評価した情報を、前記プロセス管理装置の制御とは無関係に独立に収集する情報収集装置と;該収集された各種情報に基づいて、前記プロセス管理装置によって設定された前記稼動条件が安定に維持されるように、前記各露光装置毎に設定された動作パラメータの一部を、前記プロセス管理装置の制御とは独立して修正、もしくは補正するシステム・オブザーバ装置とを設けたことを特徴とするリソグラフィ情報管理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/26 501

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G , G03F 7/26 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-305913
特開昭62-007129
特開昭63-138732

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