電子ビーム描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-323962
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177024
出願日： 1992年12月03日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】電子ビーム描画装置において、描画基板の位置決め用マーク検出のための電子ビーム走査範囲を小さくして、本パターン描画範囲を広げる。【構成】位置決め用マークを検出するCCDカメラ9を設け、CCDカメラ9によって検出された位置情報(粗調)に基づいて電子ビーム13による位置決め用マーク位置の検出(微調)のための電子ビーム走査範囲を狭めて、位置決め用マークの直ぐ近傍まで本パターンを描画できるようにし、本パターン描画範囲を広げる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された位置決め用マークの位置を電子ビームを走査して検出し、その位置に基づいて基板上に電子ビームによる描画を行う電子ビーム描画装置において、前記位置決め用マークを光学的又は光電的に検出する手段を設け、前記手段によって検出された位置情報に基づいて電子ビームによる位置決め用マーク位置の検出のための電子ビーム走査範囲を決めるようにしたことを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭56-056634
特開昭56-056634

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