特許
J-GLOBAL ID:200903074656007850

4,6-ジアミノレゾルシン類の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大石 征郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-275817
公開番号(公開出願番号):特開平10-168041
出願日: 1997年10月08日
公開日(公表日): 1998年06月23日
要約:
【要約】【課題】 ニトロ化合物やハロゲン化合物を経ることなく、しかも置換基の導入に際して高い位置選択性を有しかつ高収率で目的物を得ることのできる4,6-ジアミノレゾルシン類の工業的に有利な製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 レゾルシンをアシル化することによりジアシル化物を得る工程A、そのジアシル化物からフリース転位反応により4,6-ジアシルレゾルシンを得る工程B、その4,6-ジアシルレゾルシンをオキシム化してジオキシムを得る工程C、そのジオキシムからベックマン転位反応により4,6-ジアシルアミノレゾルシンを得る工程D、その4,6-ジアシルアミノレゾルシンから加水分解反応により4,6-ジアミノレゾルシンまたはその塩を得る工程Eからなる。工程Dおよび工程Eが、本発明の必須の工程を構成する。
請求項(抜粋):
下記の式(4)【化1】(Rはアルキル基またはフェニル基)で示されるジオキシムから、ベックマン転位反応により下記の式(5)【化2】(Rは上記と同じ)で示される4,6-ジアシルアミノレゾルシンを得、ついでこの4,6-ジアシルアミノレゾルシンから加水分解反応により下記の式(6)【化3】で示される4,6-ジアミノレゾルシンまたはその塩を得ることを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシン類の製造法。
IPC (2件):
C07C215/80 ,  C07C213/02
FI (2件):
C07C215/80 ,  C07C213/02
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-121955
  • 特開昭61-148149
  • 特開平2-121955
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