特許

J-GLOBAL ID：200903074656780621

微細パターン転写方法およびその装置

発明者： 寺澤 恒男 ,  福田 宏 ,  片桐 創一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240806
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082418
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】本発明は、X線領域あるいは真空紫外領域のビームを露光光として用い、反射型縮小投影光学系を介してマスク上のパターンをウェーハ上に精度よく転写する方法およびその装置を提供することにある。【構成】反射型縮小結像光学系の絞りの位置に、周辺部の反射率が中心部の反射率よりも低い反射鏡を設けるか、もしくは結像光学系の絞りの位置に周辺部の透過率が中心部の透過率よりも低いX線フィルタを設けることにより達成される。【効果】X線を露光ビームとする投影光学系が空間的にコヒーレントな系であっても、隣接パターン相互の干渉の影響が少なく形状精度の高いパターン転写が実現できるという効果がある。

請求項（抜粋）：

X線領域あるいは真空紫外領域のビームを第1の基板上に照明し、該第1の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して、第2の基板上に縮小転写させるX線投影露光方法において、上記結像光学系の瞳位置に形成される回折像のうち低次の回折像よりも高次の回折像を弱める工程を少なくとも含むことを特徴とする微細パターン転写方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521