平面光学導波管組み立て品、およびこれの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：曾我道照 , 曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順 , 大宅一宏
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-515620
公開番号（公開出願番号）：特表2005-531028
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

平面光学導波管組み立て品の製造方法であって: (i)基板表面へシリコーン組成物を適用し、シリコーンフィルムを形成させ; (ii)150〜800nmの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも1つの選択された領域を露光させて、少なくとも1つの露光領域と少なくとも1つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し; (iii)現像溶媒を用いて、該部分露光フィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ;ならびに (iv)該パターンフィルムを充分な時間加熱して、589nmの波長を持つ光に対して23°Cにおいて1.3〜1.7の屈折率を持つ少なくとも1つのシリコーン核を形成させるステップを含み、ここで該基板が、該シリコーン核の屈折率未満の屈折率を持つ方法。本発明の本方法により調製される、平面光学導波管組み立て品。

請求項（抜粋）：

平面光学導波管組み立て品の製造方法であって: (i)基板表面へシリコーン組成物を適用して、シリコーンフィルムを形成させ、ここで該シリコーン組成物は: (A)1分子につき平均少なくとも2つのシリコン結合アルケニル基を含有する有機ポリシロキサン; (B)該組成物を硬化させるに充分な濃度の、1分子につき平均少なくとも2つのシリコン結合水素原子を含有する有機シリコン化合物;および (C)触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒を含み; (ii)150〜800nmの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも1つの選択領域を露光させて、少なくとも1つの露光領域と少なくとも1つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し; (iii)現像溶媒を用いて、該部分露光フィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ;ならびに (iv)該パターンフィルムを充分な時間加熱して、589nmの波長を持つ光に対して23°Cにおいて1.3〜1.7の屈折率を持つ少なくとも1つのシリコーン核を形成させるステップを含み、ここで該基板が、該シリコーン核の屈折率未満の屈折率を持つ方法。

IPC (3件)：

G02B6/13 , G02B6/12 , G03F7/075

FI (3件)：

G02B6/12 M , G03F7/075 511 , G02B6/12 N

Fターム (23件)：

2H025AA00 , 2H025AB14 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC78 , 2H025BD20 , 2H025BH05 , 2H025CA39 , 2H025CB33 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA15 , 2H025FA29 , 2H147AB02 , 2H147AB16 , 2H147EA13C , 2H147EA16B , 2H147EA18A , 2H147EA20B , 2H147FA15 , 2H147FA17 , 2H147FA25 , 2H147FC02

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭61-275706
特開平3-028269
特開平3-157138

審査官引用 (9件)

特開昭61-275706
特開昭61-275706
特開昭61-275706

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