特許
J-GLOBAL ID:200903074676453694

フェライトおよびインダクタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-166110
公開番号(公開出願番号):特開平11-087126
出願日: 1998年05月29日
公開日(公表日): 1999年03月30日
要約:
【要約】【課題】 初透磁率が高く、抗応力特性および温度特性に優れ、しかも、鉛を使用する必要がなく、かつ、安価なフェライトを提供する。また、このフェライトを用いることにより、樹脂モールド型インダクタにおいて、環境汚染を引き起こすことなく、狭公差および高信頼性を実現する。【解決手段】 少なくとも酸化鉄および酸化ニッケルを含む主成分と、酸化ビスマス、酸化バナジウム、酸化リンおよび酸化ホウ素の1種または2種以上からなる添加物と、酸化シリコンからなる第1副成分と、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムの1種または2種以上からなる第2副成分とを含有するフェライトと、このフェライトを用いた樹脂モールド型インダクタ。主成分に対する比率は、添加物が0.5〜15wt%、第1副成分および第2副成分がそれぞれ0.1〜10.0wt%である。
請求項(抜粋):
少なくとも酸化鉄および酸化ニッケルを含む主成分と、酸化ビスマス、酸化バナジウム、酸化リンおよび酸化ホウ素の1種または2種以上からなる添加物と、酸化シリコンからなる第1副成分と、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムの1種または2種以上からなる第2副成分とを含有し、酸化鉄をFe2O3に、酸化ニッケルをNiOに、酸化ビスマスをBi2O3に、酸化バナジウムをV2O5に、酸化リンをP2O5に、酸化ホウ素をB2O3に、酸化シリコンをSiO2に、酸化マグネシウムをMgOに、酸化カルシウムをCaOに、酸化バリウムをBaOに、酸化ストロンチウムをSrOにそれぞれ換算したとき、主成分に対する添加物の比率が0.5〜15wt%であり、主成分に対する第1副成分の比率が0.1〜10.0wt%であり、主成分に対する第2副成分の比率が0.1〜10wt%であるフェライト。
IPC (2件):
H01F 1/34 ,  H01F 17/04
FI (2件):
H01F 1/34 A ,  H01F 17/04 F
引用特許:
審査官引用 (9件)
  • 特開平3-093667
  • フェライト材料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-337503   出願人:京セラ株式会社
  • 特開平1-103953
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