特許

J-GLOBAL ID：200903074682939230

保湿性を有するマスク用布およびそれを用いた衛生マスク

発明者： 佐波 映
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (2件)： 鎌田 耕一 ,  黒田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-111086
公開番号（公開出願番号）：特開2007-282720
出願日： 2006年04月13日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

【課題】ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜を用いたマスク用布において、水分保持能の高いマスク用布を提供する。【解決手段】積層構造を有するマスク用布であって、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜、および保湿性を有する織布または不織布を有することを特徴とするマスク用布。保湿性を有する織布または不織布としては、天然繊維より形成される織布または不織布が好ましい。当該マスク用布は、好ましくは支持層をさらに有する。また、当該マスク用布は、フラジール数で表される通気度が150cm/秒以上であることが好ましい。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

積層構造を有するマスク用布であって、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜、および保湿性を有する織布または不織布を有することを特徴とするマスク用布。

IPC (4件)：

A62B 18/02 ,  B32B 27/12 ,  B32B 5/24 ,  B32B 27/30

FI (4件)：

A62B18/02 C ,  B32B27/12 ,  B32B5/24 101 ,  B32B27/30 D

Fターム (18件)：

2E185AA07 ,  2E185BA09 ,  2E185CA03 ,  2E185CB07 ,  2E185CB15 ,  2E185CC73 ,  4F100AJ04B ,  4F100AK18A ,  4F100AT00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10C ,  4F100DG11B ,  4F100DG15C ,  4F100DJ10A ,  4F100GB66 ,  4F100JB16C ,  4F100JD02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 実開昭57-134047号公報
  
• 実公平3-30129号公報
  
• マスク用布
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-077595   出願人：日東電工株式会社